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半導體集成電路制造業(yè) 晶圓 綠色工廠評價要求

晶圓是硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,晶圓制造是半導體集成電路的重要制程,由晶圓進一步制造的半導體集成電路芯片是廣泛應用于各類電子產(chǎn)品生產(chǎn)的重要核心元器件。《半導體集成電路制造業(yè) 晶圓 綠色工廠評價要求》(T/CESA 1081-2020)(以下簡稱“本標準”)規(guī)定了半導體集成電路制造業(yè)晶圓綠色工廠評價的原則、方法、指標體系及要求、程序和報告等,適用于對生產(chǎn)8英寸或12英寸的半導體集成電路晶圓產(chǎn)品的工廠進行評價,其他類型集成電路產(chǎn)品生產(chǎn)制造工廠也可參照使用。

本標準圍繞《綠色工廠評價通則》(GB/T 36132)及《電子信息制造業(yè)綠色工廠評價導則》(SJ/T 11744)中規(guī)定的基本要求,以及基礎(chǔ)設(shè)施、管理體系、能源資源投入、產(chǎn)品、環(huán)境排放、績效等6個一級指標展開,充分考慮晶圓產(chǎn)品制造業(yè)的特征特性,進一步細化了28個二級指標,涉及111個具體要求。如,晶圓產(chǎn)品生產(chǎn)廠房設(shè)計應滿足《硅集成電路芯片工廠設(shè)計規(guī)范》(GB 50809)的要求,潔凈廠房設(shè)計應滿足《電子工業(yè)潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》(GB 50472)的要求;晶圓產(chǎn)品生產(chǎn)應根據(jù)工藝選擇淋洗、噴洗、多級逆流漂洗、回收或槽邊處理的清洗方式,不采用單槽清洗等方式;應配備適宜生產(chǎn)規(guī)模的揮發(fā)性有機物處理裝備;應運用適宜生產(chǎn)規(guī)模的臭氧層消耗物質(zhì)消解破壞技術(shù)和裝備等。

為保證評價工作可操作性,本標準對“用地集約化、原料無害化、生產(chǎn)潔凈化、廢物資源化、能源低碳化”5項綠色工廠績效指標進行細化和分級,將晶圓產(chǎn)品生產(chǎn)制造工廠的綠色績效水平分為3個級別,并給出不同績效水平對應的指標要求和評價得分。如,明確晶圓制造業(yè)“生產(chǎn)潔凈化”對應的“單位產(chǎn)品臭氧層消耗物質(zhì)產(chǎn)生量”指標要求,8英寸產(chǎn)品生產(chǎn)工廠指標分別為≤28.8mg/cm2(1級)、≤51.9mg/cm2(2級)、≤57.5mg/cm2(3級),12英寸產(chǎn)品生產(chǎn)工廠指標分別為≤23.4mg/cm2(1級)、≤42.1mg/cm2(2級)、≤46.8mg/cm2(3級);“能源低碳化”對應的“單位產(chǎn)品綜合電耗”指標要求,8英寸產(chǎn)品生產(chǎn)工廠指標分別為≤0.83kWh/cm2(1級)、≤1.27kWh/cm2(2級)、≤1.72kWh/cm2(3級),12英寸產(chǎn)品生產(chǎn)工廠指標分別為≤0.66kWh/cm2(1級)、≤1.02kWh/cm2(2級)、≤1.38kWh/cm2(3級)等。

中芯國際、中芯北方、施耐德電氣等企業(yè)參與了本標準的研制和驗證。


來源:節(jié)能與綜合利用司 閱讀量:4200 |   收藏
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